今年是光刻设备领先供应商阿斯麦（ASML）第五次参加进博会，公司将以“光刻未来，携手同行”为主题，亮相国家会展中心技术装备展区集成电路专区，并首次以互动视频的形式带领观众深度了解ASML包括光刻机台、计算光刻以及光学和电子束量测在内的全景光刻解决方案如何相互协作、支持客户。
正式参会前夕，ASML全球高级副总裁、中国区总裁沈波就本届参展计划、在华业务发展情况及未来规划等热点话题和外界展开交流。
“今年，我们深圳和武汉的研发团队开发并发布了一款贴合中国客户需求的新版本计算光刻产品，能够实现行业领先的良率。在此背景下，我们也希望通过进博会这样的平台持续让外界对ASML有更客观、全面的认识，ASML始终积极响应中国集成电路行业的发展需求，为客户提供全景光刻解决方案，这其中不仅包括大家熟知的光刻机台，还有计算光刻、以及光学和电子束量测，从而帮助客户经济高效地提升良品率和生产效率。”沈波近日向证券时报等在内媒体介绍。
帮助客户优化工艺是重要附加值
“计算光刻主要应用于芯片的开发与制造环节，实际是通过大量的数学和物理模型的建立来帮助客户在芯片开发和制造时设计出一个模板——用专业的词来说叫‘光罩’（又叫‘掩模版’）；光刻机是把这个光罩上面客户设计的图案投影到晶圆上面，然后晶圆通过光刻胶的显影后续的工序把它呈现出来。”沈波给出相关定义时说。
据了解，2004年，ASML在深圳建立首个计算光刻开发中心。经过近20年的人才积累，该中心已成为ASML在全亚洲最大的专业软件开发中心。目前，ASML在国内有深圳和武汉两个计算光刻开发中心。
ASML“铁三角”全景光刻解决方案中的另一环是量测，其是曝光后晶圆成像检查和反馈的环节，帮助进一步优化模型。量测分还为光学和电子束两种，其中，ASML电子束量测在北京设有开发中心，是ASML电子束量测的全球四大开发中心之一，专门从事电子束系统关键组件的开发。
“ASML的服务不光是对故障维修和让设备正常运转，很重要的一个附加值在于ASML团队能够配合客户的工艺做调整、优化，帮助客户实现其工艺要求，从而使客户能够在制造芯片过程中获得更好的良率和生产效率，更顺畅地把工艺窗口做好；这是我们围绕‘成像环节’做的一些事情，其中需要的不仅仅是光刻机，我们的计算光刻软件和量测系统一起构成了紧密协作的三角形。”沈波在交流会上谈到。
