相信大家都知道，有着“智能手机”鼻祖称号的苹果手机，在乔布斯的带领之下，发布了初代iPhone手机以后，更是不断地给手机界带来了创新，几乎每一次的外观设计、系统功能等方面的改动，都能够引发各大手机厂商的跟随，尤其是众多国产手机厂商们，最喜欢争相模仿iPhone手机的外观设计，例如刘海屏、FaceID等都成为了行业纷纷模仿的功能。
但随着全面屏手机的形态不断发生改变，消费者审美水平也开始不断地提升，这也导致“万年不变”的iPhone手机刘海屏遭到了广大网友们的疯狂吐槽，但对于很多果粉们而言，似乎依旧非常的享受“FaceID”所带来的便利，但却不想要“大刘海屏”设计，所以也希望苹果能够拥有更多的创新，希望能够将“刘海屏”设计给取消掉，终于在近日，有媒体爆出了猛料，苹果公司在近日正式申请了一项“光线传感器”的技术专利，苹果将会设计一种全新的传感器，可以放置在屏幕下方，这也意味着未来iPhone手机将有机会取消掉“大刘海屏”设计，因为苹果将把所有的元器件放到屏幕下面去。
但对于苹果所申请的这项“屏下”技术，却再次遭到了很多网友们的“吐槽”，因为这项技术就是我们的国产老牌手机巨头—中兴，没想到在库克的带领之下，苹果手机也开始“山寨”了；在前段时间在2021MWC大会上，全球首发的3D结构光技术，可以将所有的3D结构光元器件、前置相机等等都放到屏幕下方，整个手机屏幕设计没有任何刘海、美人尖、挖孔等设计，正面完完全全就是一块屏幕。
但也有业内人士指出，虽然在外观设计方面，有抄袭中兴手机的嫌疑，但在核心技术原理上还是有着很大的区别，因为苹果所采用的FaceID功能是基于VCSEL+DOE的方案，同时还申请了大量的专利，几乎用着非常全面、完整的技术专利壁垒，而中兴所采用的3D结构光技术是基于EEL（边发射激光器）结合纳米光子芯片的结构光方案，二者还是有着很大的区别。
